ASML heeft een contract gesloten met Tokyo Electron Limited voor gezamenlijk onderzoek. De twee gaan zich richten op het verbeteren van Extreme Ultra Violet (EUV)-technieken, die werken met licht van zeer korte golflengte waarmee minuscule details op chips gemaakt worden.

De overeenkomst moet de ontwikkelingen versnellen, zodat opp tijd de chipmachines kunnen worden gemaakt waar de markt om vraagt. Het kost ASML en zijn collega's soms moeite om de vooruitgang op chipgebied bij te benen. Momenteel werken de meeste chipproducenten op een spoorbreedte van 22 nanometer en de volgende stap is al in zicht.

Niet alleen de belichting speelt een rol bij de productie, ook aan de omgeving wordt veel aandacht besteed. Het onderdompelen van de wafers in een gasmengsel van argon en fluor biedt mogelijkheden en die zullen ASML en Tokyo Electric ook gaan onderzoeken.

Het ontwikkelingswerk zal zowel in Japan (Kunamoto) als in Nederland (Veldhoven) worden gedaan. In beide plaatsen zal ook ruimte worden gemaakt om de nieuwe technologie te demonstreren aan klanten. Onlangs hebben de twee partners een demonstratie gegeven van waferproductie, waarbij een record van 4000 stuks per dag werd gehaald. Het is de bedoeling dat dat aantal snel wordt opgetrokken.